使用組合透鏡系統對物體成像，實現加電時液晶透鏡區域清晰，具有大視場、局部高分辨率的效果。本文通過實驗測量分析模組光圈與液晶透鏡匹配、液晶透鏡位置等對于成像質量的影響。研究方向：液晶透鏡成像系統測試目的：展示成像系統對于局部區域的清晰成像效果，測量不同位置、不同光圈下成像系統的MTF，分析其對于成像質量的影響。測試設備:相機、鏡頭、函數發生器、功率放大器ATA-24組合透鏡系統放大器型號:AigtekATA-242實驗過程：1.實驗室制備液晶透鏡，并通過干涉法獲取波前信息，分析得到zernike系數，得到液晶透鏡的性能參數，以選擇合適的驅動電壓；組裝成像系統，對不同區域的物體進行成像實驗；使用ISO12233板對成像系統進行對焦測試，測試不同光圈、不同液晶透鏡位置的MTF值。低功耗、高速度、高集成度的LSI電路是成眾多電子產品的要考慮，這也就導致裝置比以往任何時候更容易受到電磁干擾的威脅。此外，大功率家電及辦公自動化設備的增多，以及移動通信、無線網絡的廣泛應用等，又大大增加了電磁騷擾源。這些變化迫使人們把電磁兼容作為重要的問題加以關注。電磁兼容采用一定的手段，使同一電磁環境中的各種電子、電氣設備都能正常工作，并且不干擾其他設備的正常工作，這就是電磁兼容（ElectromagneticComatibility，縮寫為EMC)。
